특허-실용신안 심사지침서 일부 개정

특허-실용신안 심사지침서가 일부 개정되어 2011.7.1.자로 시행될 예정임을 알려드립니다. 주요 개정내용은 다음과 같습니다. 

□ 개정 특허법의 배경기술 기재에 관한 심사기준 신설(2011.7.1. 이후의 특허,실용신안 출원에 대하여 적용): 제2부 제2309 - 2312쪽
  - 특허를 받고자 하는 발명에 관한 배경기술일 것
  - 배경기술의 구체적 설명을 적거나 적절한 배경기술이 개시된 선행기술 정보를 적으면 배경기술 기재한 것으로 인정
  - 배경기술 미기재시 거절이유 통지를 받으면 출원인은 적절한 배경기술이 개시된 선행기술 정보를 추가하는 보정을 하여 거절이유 해소 가능

□ 전문기관 선행기술조사에 의한 우선심사신청 절차 보완: 제7부 제7345쪽
  - 분할출원의 우선심사신청시에 원출원에 대한 전문기관 선행기술조사 결과를 활용할 수 있도록 제도 운영 개선